泰纳克熔片机

泰纳克熔片机：
熔样效果佳
该机采用先进的炉体摆动和样品架自旋同时进行的设计，确保样品熔体的涡流式运动，在*短的时间内达到*佳的均匀度和*佳的排气泡效果。
适合多种材料的不同温度下熔样
本机采用硅碳棒式加热，S型铂铑热电偶测温，液晶触摸式显示屏+PLC+AI人工智能控制，全新智能化人机操作系统，具有故障自检、易于操作、运行可靠等特点，参数默认式设计，使操作更为简单、安全、自动化程度更高、控温更*确，多种材料不同温度下均可达到高质量的熔样效果，具有优良的分析再现性，能满足多种行业分析标准的要求。
设有多项保护功能
设计有多项保护功能，如断偶、超温等，当超温或超越限位行程时同样采用软硬件双重保护，从而保障设备长期稳定运行。
主要技术指标：  
■控制系统：AI智能控制
■长×宽×高：1120mm×620mm×1050mm
■升温速度：平均30℃/min
■额定温度：0~1250℃
■加热元件：枪型硅碳棒（φ14×250×175×50）
■控温精度：±1℃保温时±2℃（S型单铂铑热电偶测温）
■熔样数量：4位（一次成型或浇注成型）
炉体摆动角度：0~40°可调
■托架旋转速度：0~30r/min可调（变频器无极调速、可正反向旋转）
■可提供9条工作曲线
■熔样时间的选择
前静置时间0~160min可选
摆动时间0~160min可选
后静置时间0~160min可选
极限运行时间165h
■仪器重量：设备总重380kg
■设备功率：8kw
■电源要求：加热电路单相380V  控制电路单相220V
■额定电流：30A
■额定频率：50Hz                  
产品资料来源：http://www.tnsysb.cn/SonList-1960282.html
https://www.chem17.com/st315641/erlist_1960282.html