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钨靶材W磁控溅射靶材

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  • 发布日期:2020-12-22 15:17
  • 有效期至:长期有效
  • 产品区域:北京通州区
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详细说明
 科研实验专用 钨靶材W磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
      钨(W)经过冶炼后的是银白色有光泽的金属,熔点极高,蒸气压很低,蒸发速度也较小,化学性质也比较稳定硬度高,常温下不受空气侵蚀;约50%用于优质钢的冶炼,约35%用于生产硬质钢,约10%用于制钨丝,约5%其他用于其他用途。钨可以制造枪械、火箭推进器的喷嘴、穿甲弹、切削金属的刀片、钻头、超硬模具、拉丝模等等,钨的用途十分广泛,涉及矿山、冶金、机械、建筑、交通、电子、化工、轻工、纺织、军工、航天、科技、各个工业领域。
产品参数
中文名称:钨  化学式 W
沸点 5555℃   熔点 3422℃
密度 19.25g/cm3
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
联系方式
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